NXQ8000系列掩膜曝光機機械手機構曝光系統
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機對準工作臺：
　　
　　高精度薄型精密雙層三維對準工作臺，采用交叉滾柱V形導軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結構，保證了工作臺的直線性和旋轉精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機機械手機構：
　　
　　機械手采用直線導軌和滾珠絲杠結構，具有高的定位精度和重復精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機上版架系統：
　　
　　上掩模版的升降導軌選用THK可調分離型直線導軌，驅動采用高分辨率的數顯微分頭，從而保證兩掩模版的重復精度和定位精度。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機對準觀察系統:
　　
　　雙光路結構的臥式分離視場顯微鏡，可以獲取高清晰的圖像同時兼容CCD成像液晶顯示功能
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機電氣控制系統：
　　
　　整機采用PLC+觸摸屏控制，提供運行狀態顯示及多種檢測功能，易于操作，控制精度高，性能穩定。
　　
　　NXQ8000系列掩膜曝光機曝光系統：
　　
　　上、下兩套獨立的紫外光曝光系統，采用*結構方案，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。